扩散炉-立式扩散炉-氧化扩散炉 晨立电子

扩散炉

设备主要技术指标：
1.外型形式：单管立式，加热

2.硅片尺寸：156*156方片/准方片

3.工作温度范围：400-1200℃

4.恒温区长度：≥300mm，单次可装载10片156*156方形硅片，背靠背装片模式，配石英舟

5.恒温区精度：±0.5℃/300mm

6.气路系统：三路气体系统，采用进口MKS质量流量计、气动阀、等进口部件

7.温度控制系统：PLC+触摸屏可编程控制方式，自动加手动可方便切换，温控系统采用进口温控仪，温度、流按工艺自动调节

8.扩散方式：设备配置真空系统，支持负压扩散方式

9尾气处理：设备配备尾气处理系统，采用溶液吸收发吸收尾气中的有害成分

10.冷却系统：设备配有冷水系统，用于保护密封装置及冷却加热器外壳

11.报警及保护：超温、断偶、缺水及真空异常系统自动报警及保护