半导体PECVD 硅电极SIlicon Electrode喷淋头Shower Head
电工电气
福田
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详情信息
半导体硅电极FullSi Electrode
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839-011906-902
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碳化硅喷淋头SiC ShowerHead
硅喷淋头SiliconShower Head
PECVD的喷淋头应用于半导体集成电路制程刻蚀设备中，在晶圆制造刻蚀环节，作为附加电压的电极，还作为是刻蚀气体进入腔体的通路，是晶圆制造刻蚀环节所必需的核心部件。
839-011907-001
上硅电极Silicon UpperElectrode
839-011907-111
716-140141-261, Hot Edge Ring
1D10-309946-12, DRM FocusRing
Applicator SapphireTube
3750-01112
Applicator Quartz Tube
Ring Upper GroundSiC
Sapphire Tube
Y2O3 Top Ring
Y2O3 Bottom Ring
LAM Silicon Electrode硅电极839-011906-001839-011906-002839-011906-100839-011906-902839-443215-502839-011907-001839-011907-111
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Applicator
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0190-34419
0190-37894
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3750-01144
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SA7610QTZ2
SA7610QTZ4
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AX7610
AX7610LRC-S
AX7610-5-REV 1L
AX7610LRC-Q
AX9013
AX9016
716-140141-261, Hot Edge Ring
1D10-309946-12, DRM Focus Ring
更多产品需求，可与我公司联系。
相关产品：半导体PECVD , SiC , Si硅电极 , 喷淋头 , LAM硅电极 , Focus , Ring , 聚焦环
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碳化硅喷淋头SiC ShowerHead
硅喷淋头SiliconShower Head
PECVD的喷淋头应用于半导体集成电路制程刻蚀设备中，在晶圆制造刻蚀环节，作为附加电压的电极，还作为是刻蚀气体进入腔体的通路，是晶圆制造刻蚀环节所必需的核心部件。
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上硅电极Silicon UpperElectrode
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Applicator SapphireTube
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