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更新时间:2026-04-09 信息ID:38728 浏览次数:0 位置:大连市甘井子区大连市金州区五一路354号
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真空薄膜原理——
将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷站上,将薄膜穿过冷却辊(蒸镀辊)卷绕在收卷站上,用真空泵抽真空,使蒸镀室中的真空度达到4×10-4mba以上,加热蒸发舟使高纯度的铝丝在1300℃~1400℃的温度下融化并蒸发成气态铝。启动薄膜卷绕系统,当薄膜运行速度达到一定数值后,打开挡板使气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光亮的金属铝层。真空镀铝示意图见图1。通过控制金属铝的蒸发速度、基材薄膜的移动速度以及蒸镀室内的真空度等来控制镀铝层的厚度,一般镀铝层厚度在250~500å。
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